植珠加工法是利用高压电产生强电场，使玻璃微珠带电而吸附于织物上的静电植珠方法：或将玻璃微珠均匀撒在涂有粘合剂的织物上的撒珠法；或通过玻璃微珠槽的粘珠法。工艺流程：
基布→前处理→施加反射层→涂粘合剂→植珠→后处理。
1.2植珠法反光布结构：
其结构示意图如图1-(a)、(b)所示：
植珠法反光布的表面和横断扫描电镜照片如图2所示：

2.加工影响因素分析：
2.1基布的选择及其前处理的研究：
2.1.1基布的种类、规格及其制成的反光布的性能。
2.2反射体的设置
2.2.1反射体的选择
玻璃微珠背面设置反射体，目的在于将经过微珠折射后的入射光，尽可能多地通过反射体返回微珠内，然后再经微珠折射后返回光源处。微珠背面不设置反射体，反光强度极低，而设置了反射体的，反射比较高者提高较多。但太高则由于布面光滑难于涂覆粘合剂。
2.3.2反射体用量对反光强度的影响
从理论上讲反射体用量越多，反射层越光亮，产品的反光强度越高。但在试验中发现：反射体用量增至一定程度后，反光强度反而下降，并出现产品粘结牢度下降，表现为加工困难，产品不耐洗涤，微珠脱落等问题。如图4所示，反射体用量有一最佳值，在该值范围除反光强度高外，产品的其它性能也很好。
2.3粘合剂影响分析
粘合剂的种类很多，不同的加工方式选择不同的种类。本项目采用涂层复合的施加方法。目前，织物涂层剂有天然橡胶、合成橡胶、聚氯乙烯、聚氨酯、丙烯酸酯等几大类聚合物，其中橡胶类和聚氯乙烯类织物涂层剂价格低廉，但易老化，且皮膜强度低；聚氨酯涂层剂所得涂层织物皮膜强度大，耐水压，耐洗、耐寒及粘接强度好，但成本高；聚丙烯酸酯涂层剂所得织物风格柔软，皮膜透明，耐候性好，需要筛选合适的品种，否则有折痕、粘接牢度差等问题。在反光布的反光系统中，微珠约1/2暴露于空气中，约1/2埋于反射层上与反射镜面接触，并依靠粘合剂连接。粘合剂的选择原则如下：
(1)柔软且有弹性
作为服用性的反光布应满足人们穿着舒适的需要，即要求反光布柔软—易弯曲、易折，同时具有易缝制、滑爽和挺括舒适不起皱的表观风格。因此选择粘合剂时要求树脂成膜后比较柔软且有弹性。
(2)粘合剂的粘接牢度好
反光布在服用时跟随服装一起经受较多次的摩擦和洗涤，粘合剂作为粘合玻璃微珠、粘合织物、层与层的粘合等桥梁作用，直接影响着整个产品的牢度。因此选择粘合剂时要求其粘接牢度好，具体表现为反光布经标准摩擦和洗涤后反光强度降低少、无剥离现象等。粘合剂的粘接性能好坏，取决于粘合剂和被粘物表面的结构与状态，及粘合过程的工艺参数如含固量、涂覆厚度等。
(3)粘合剂的透明性要高
本反光布结构中，除了玻璃微珠与反射层对反光布的反光亮度起决定性作用以外，连接两者的粘合剂的透明性，也是影响反光性能的重要因素。粘结玻璃微珠的涂层剂成膜以后包覆在玻璃微珠的周围，影响反射光光路的畅通，若粘合剂成膜透明性好，使得反光系统的光强传播损失小，将有利于反光亮度的提高。高分子材料的透明性由本身的结构和树脂的成膜过程所决定，小分子(溶剂或水分子)挥发逸出越彻底，则透明性越好。
2.4玻璃微珠对反光性能的影响
2.4.1折射率、直径与反光强度的关系
2.4.2微珠的埋植深度对反光强度的影响
在回归反射织物的加工过程中，通过控制工艺参数而控制微珠的埋植深度是非常重要的。如果微珠陷入反射层过深，玻璃微珠接受到的入射光相对较少；其次，光线进入微珠经折射后有一部分将回不到光源方向(如图8)。而过浅则反射层不可能有效地包覆于微珠的背面，有透射现象产生，同时反映在产品上的微珠耐洗涤、耐摩擦牢度的降低。因此微珠埋植过深或过浅都使反光亮度降低。经过大量横断面扫描电镜照片的观察后发现：微珠的埋植深度约为其直径的二分之一到三分之一较理想。

2.4.3微珠分布状态对反光强度的影响
(1) 密度 玻璃微珠分布得密集、均匀，则产品的反光强度高；
(2) 排列层次 定向反光布表面的微珠必须保证单层排列，避免多层摞珠。否则，摞在珠子上面的没有了反射层的衬托就失去回归反射性能(见前面反射体的影响)，并且这部分珠子与粘合剂接触面小，牢度差，一搓就掉。