硅溶胶抛光液，它采用纳米级工艺，可以达到高效稳定的抛光效果，让工件呈现出高平坦、镜面化效果，而且不会划伤工件，硅溶胶抛光液采用的是纳米级工艺，主要粒径在10-150纳米，适用于各种材质工件的CMP表面镜面处理，它可以应用于半导体晶圆、光学玻璃，、3C电子金属元件、蓝宝石衬底、LED显示屏等高精密元件的平面研磨抛光。硅溶胶抛光液悬浮性 ，高固含量、分散性好、易摇散且不团聚、化学性能稳定、抛光率高，能有效缩短工时，提高生产效率。